钼钛锆系列合金的物理和化学性能

   

钼钛锆系列合金的物理和化学性能

性能钼钛锆系列合金的物理和化学性能与纯钼相似，但力学性能大为提高。其中TZM合金具有优异的综合性能，其力学性能列于表2。TZM合金的再结晶温度比Mo-0.5Ti合金的约高160℃(图3)。消除应力状态的厚度为1.Omm的TZM板材的弯曲塑一脆性转变温度为-73.3℃，消除应力状态的φ16mmTZM棒的拉伸塑-脆性转变温度为-19～-25℃。Tzc合金比TZM合金具有更高的高温强度和再结晶温度，其力学性能见表3。熔铸法TZC合金棒材的再结晶温度为1871℃，板材的再结晶温度为1593～1649℃，消除应力状态的厚度为1.3mm的TZC板材的弯曲塑一脆性转变温度为-1.1℃。另外，TZM合金中细的弥散的钛和锆的复式碳化物颗粒对焊接熔融区和热影响区的晶粒长大起抑制作用，使其焊接性能优于纯钼。

表2TZM合金的室温及高温力学性能

                                            表3TZC合金的室温和高温力学性能

TZM合金和Tzc合金的强化机理

TZM合金和Tzc合金的强化机理

TZM合金其强化机理是：(1)冷加工形变硬化既提高合金强度又细化晶粒，同时产生有韧性的纤维状显微结构。(2)少量钛和锆元素在钼基体中溶解，增加结构稳定性，提高再结晶温度。(3)由钼基体中的置换型元素(钛、锆)与间隙元素(碳)相互反应形成球形复式碳化物颗粒的沉淀而引起的弥散强化，改善钼的高温强度和抗蠕变性能。TZM合金中碳和钛的含量有与Mo-0.5Ti合金相同的临界比例。粉末冶金法制取

                                  图1 Tzc合金中碳化物的近似稳定温度范围

的TZM合金中，氧含量可明显高于纯钼和Mo-0.5Ti合金，然而却不影响其热变形性能。这是因为存在的氧与合金元素钛和锆形成了球状氧化物，弥散分布的球状氧化物对晶粒长大所起的抑制作用优于碳化物。

TZC合金由于TZC合金中钛、锆、碳元素含量较高，形成一定量的：Mo2C、TiC和ZrC相，它们有不同的稳定温度范围(图1)，因此该合金可由热处理来获得时效硬化的效果。在高温时TiC首先溶解，接着Zrc和MozC相继溶解，然后在时效过程中TiC大量沉淀，起到沉淀强化的作用。由于锆元素对基体的固溶强化，并可使TiC的稳定性增加，从而导致合金在1927℃以上退火后室温硬度上升(图2)。

                                      图2 退火温度对钼合金硬度的影响

钼钛锆合金的化学成分

钼钛锆合金的化学成分

以钼为基加入少量钛、锆和微量碳元素的钼合金，具有高的高温强度，是目前应用最广的钼合金。钼钛锆合金的名义成分是Mo-0.5Ti-0.08Zr，通用牌号为TZM，其化学成分列于表1。1956年美国克莱马克斯钼公司生产出第一批工业规模的TZM合金锭。20世纪50年代末，用熔铸法可大批量制作TZM合金材。到70年代，该合金成为最优秀的通用钼合金。中国于60年代中期开始研究用熔铸法制作TZM合金，70年代进行了较大规模的试制，具备了用熔铸法和粉末冶金法生产TZM合金产品的能力。

表1 TZM合金的化学成分(％)

为满足更高的温度和强度的使用要求，在TZM合金的基础上增加钛、锆、碳元素而形成钼钛锆碳合金，其通用成分为Mo-1.25Ti-0.15Zr-0.15C，称为TZC合金。然而因为其变形难度大，所以到20世纪90年代仍未形成工业化生产规模，没有系列产品，只是根据使用要求提供产品。

钼钛锆合金的概述

钼钛锆合金的概述

以钛和锆等为合金元素的钼基合金。
目前应用最多的有TZM（Mo-0.5%Ti-0.008%Zr）和TZC（Mo-1.25%Ti-0.15%Zr-0.15%碳）。很好的高温强度和很高的再结晶温度，又有较好的室温塑性。用粉末冶金法和真空电弧熔炼方法制取。可在极恶劣条件下作高温结构材料和高温加工的工具材料。如用于制造铝和铜合金、铸铁和铁系合金的压铸模具和型芯、作不锈钢等的热挤压工具和无缝钢管热加工用顶头。还可作宇宙火箭装置和飞面的零部件。近来有用铪代替钛，用形成双相组织的方法强化钼合金。

钼钛锆合金的定义

钼钛锆合金的定义

定义：以钼为基体元素同合金元素钛、锆、碳组成的合金。最著名的是含钛0.40%~0.55%(质量分数)、锆0.07%~0.12%(质量分数)和碳0.01%~0.04%(质量分数)的钼合金，即TZM钼合金。

应用学科：材料科学技术（一级学科）；金属材料（二级学科）；有色金属材料（三级学科）；高熔点金属及其合金（四级学科）

 

钨钼靶材产品规格

钨钼靶材产品规格 

 

钨钼靶材及离子注入用磨光产品因技术优越、产业化研究，生产规模、产能不断扩大，质量体系健全、完善。产品现销售到韩国、日本等地区，均得到用户的肯定。可生产的TFT-LCD 和太阳能薄膜电池溅射靶材用钼板的规格范围：6~25×100~1500×≤3000 mm；

 产品规格如：9.5×160×925mm；15×133×778mm；19×200×2700mm； 

10×885×960mm； 14×1400×1700mm；16×1431×1650mm。

钼溅射靶材的应用

钼溅射靶材的应用

 溅射靶材用于磁控溅射镀膜，溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜(PVD)方式。

在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气)，在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电子， 靶上加有一定的负高压，从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率增大，在阴极附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面， 以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。

溅射镀膜的主要应用于：平板显示器、镀膜玻璃工业(主要包括建筑玻璃、汽车玻璃、光学薄膜玻璃等)、薄膜太阳能、 表面工程(装饰&工具)、（磁、光）记录介质、微电子、汽车车灯、装饰镀膜等。
可以根据用户的要求提供以下尺寸的钼溅射靶材:

板靶材: 单重:≤200kg/pc, 纯度:≥99.95%
管靶材: 长度:≤Φ165mmΧ1000mm ,纯度:≥99.95%

钼靶材研制整体工艺

                       钼靶材研制整体工艺

通过对钼冷粉等静压成型技术、烧结技术、轧制技术和热处理技术以及机加工等关键技术攻关，研制满足大尺寸光伏用钼靶材，得到用户认证。该项目自立项以来，双方根据搜集到的相关知识信息以及结合较为成熟的钽铌靶材加工经验，通过多轮试验摸索，现已确定了钼靶材研制的整体工艺方案，并完成了钼靶材的小样试验，今后该项目将继续稳定和完善钼靶材制造工艺。
     调研中，详细听取了相关部门负责人介绍，并对该项目的进展情况进行了详细询问,集团要充分利用自身的科技资源，以实现共赢发展。同时，要求相关部门要加大对集团这种高科技企业的扶持力度，支持集团做好技术创新、产品创新、管理创新，加快技术进步和发展，拉长企业产业链，进一步提升企业核心竞争力，做大做强企业。

钼靶材生产工艺

                                   钼靶材生产工艺

在科研人员的努力下，进行了多次试验，开发出用压力加工法代替粉末冶金法的生产工艺，解决了高纯钼锭制备、钼靶材锻造、轧制和热处理的技术关键。研制出的钼靶材样品化学成分、物理性能、微观组织等性能均达到国外同类产品水平，纯度大于99.95%，相对密度大于99%。建成1条年产10吨钼靶材的生产线，可满足国内市场对高端钼靶材产品的需求

高纯钼靶

                                    

                                高纯钼靶

高纯钼靶材是《国家新材料产业“十二五”发展规划》中确定重点开发的400种新产品之一，广泛用于光伏、导电玻璃、平板显示器、光学玻璃、离子镀膜等行业。目前，全球钼靶材制造商主要集中于美国、德国和日本，我国具有丰富的钼矿产资源，但由于国外公司的技术封锁，高纯钼靶材产业仍处于起步阶段，国产化产品存在纯度不高、尺寸偏小等缺陷，很难与国外企业竞争。

钼靶材的应用和工艺介绍

钼靶材的应用和工艺介绍

钼靶材广泛用于导电玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光学玻璃、离子镀膜等行业，适用所有平面镀膜及旋转镀膜系统。

采用等静压成型-中频炉烧结-轧机轧制-机加工处理-检测-成品。

纯钼靶材

材料：纯钼靶材

纯度：99.95%，

型号：MO1

成分

Element	W	Si	O	Ni	Ni	N	K	Fe	Cu	Cr	C
PPM	300	25	50	50	20	20	30	50	15	20	50

钼铌靶材的生产工艺

                               钼铌靶材的生产工艺

材质：MO(2)         钼(1)                      MoNb(1)                            90%MO10%(1)

规格：各种规格(2)                按客户要(1)

厚度：3-100(mm(1)

Mo靶材，99.95%纯度，生产工艺，粉末烧结

 

MoNb靶材，99.95%纯度，生产工艺，真空热压

 

钼靶X线

                           
                           钼靶X线


X线钼靶摄影检查乳腺，作为一种无创性的检查手段，痛苦相对较小，简便易行，且分辨率高，重复性好，留取的图像可供前后对比，不受年龄、体形的限制，目前已作为常规的检查，对乳腺癌的诊断敏感性为82%～89%，特异性为87%～94%。

计算机X线摄影(Computed Radiography，CR),是传统放射技术与现代计算机技术相结合的一种数字化影像新技术,它最终将普通X线摄影的模拟图像转化为可被量化处理的数字化图像,使传统X线拍片技术及图像质量发生质的飞跃，使放射科医师更易于发现乳腺摄片中的可疑恶性病变，被认为是一有助于提高乳腺癌早期检出率的方法。

乳房 钼靶X线摄影具有以下几方面独特的价值：

它可作为一种相对无创性的检查方法，能比较全面准确地反应出整个乳房的结构。

利用X线检查可以观察各种生理因素（如月经周期、妊娠、哺乳、经产情况及内分泌改变等）对乳腺结构的影响，并可以作动态观察。

比较可靠地鉴别出乳腺的良性病变和恶性肿瘤。

可以早期发现乳腺癌，甚至能够检查出临床上未能触到的隐匿性乳癌。

根据X线检查，可发现某些癌前期病变，并可以进行随访摄片观察。

对于乳腺癌患者进行放疗、化疗后的病变情况进行随访检查，观察疗效，并对健侧乳房进行定期监测。

钼铌靶材(MoNb)靶材

钼铌靶材(MoNb)靶材
型 号：  MoNb  、Mo90、 Nb10……
规 格：  1550*190*12   按客户要求
钼铌靶材(MoNb)靶材,比例:Mo(90):Nb(10)wt% ,相对密度:9.92g/cm3,

钼靶材

钼靶材

产品名称       钼靶材

规格       Mo-1依用户图纸要求 By users drawing

含量       ≥99.95

用途       广泛用于导电玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光学玻璃、离子镀膜等行业，适用所有平面镀膜及旋转镀膜系统。广泛应用于导电玻璃，液晶/总氮/液晶，光学玻璃，离子镀膜行业，适用所有平面涂层和自旋涂层系统

平面钼靶

平面钼靶

钼含量：≥99.95%
密度：10.20g/cm3
规格：宽度≤650mm
           长度≤3300mm
表面：黑面，车光，磨光，抛光