钼溅射靶材

我们拥有热轧机和冷轧机，可以提供钨，钼靶材厚度为0.2毫米至20毫米。具有非常好的性能，这些产品可用于生产电极，加热器，屏蔽件等。

钼溅射靶材又称钼靶材，可用于常用的X射线管的X射线屏蔽。
钼溅射靶材，即钼靶材，通常由钼粉经烧结而成。多数情况下，它是由阳极本身就是烧结钼粉制成，目标是由阳极所形成的。阳极可以是固定式或旋转阳极。其他的标准方法，化学气相沉积，或者再次，当焦点在一个旋转阳极的情况下，电解沉积启用了钼层沉积在阳极，沿着一条轨道，以形成对整个阳极表面或表面上这个目标的一部分。

钼溅射靶材

材料	纯度
钼溅射靶材  2"D X .125"T	99.95%
钼溅射靶材 2"D X .250"T	99.95%
钼溅射靶材"D X .125"T	99.95%
钼靶材3"D X .250"T	99.95%
钼靶材 4"D X .125"T	99.95%
钼靶材 4"D X .250"T	99.95%

其它尺寸也可。