旋转钼靶

旋转钼靶（无缝钼管）
钼含量：≥99.95%
密度：10.20g/cm3
规格：直径100-220mm
           长度100-600mm
表面：黑面，车光，磨光，抛光

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纯钼靶材

简介：钼靶 

纯钼靶材 钼含量：≥99.95%

密度：10.20g/cm3

 规格：宽度≤650mm 长度≤3300mm

表面：黑面，车光，磨光，抛光 2.旋转钼靶（无缝钼管） 钼含量：≥99.95% 密度：10.20g/cm3 ...

纯钼靶材

二硫化钼靶材MoS2 target

产品名称：

二硫化钼靶材 MoS2 target

型号：

圆片，圆台， 矩形，片材，台阶片，管材，圆环，旋转靶材 二硫化钼靶材 MoS2 target

     产品摘要：

      材质：二硫化钼靶材 MoS2 target

      二硫化钼靶材 MoS2 target 含量： 99.9

      二硫化钼靶材 MoS2 target（％）

      用途：溅射材料，镀膜材料，

      二硫化钼靶材 MoS2 target

二硫化钼靶材MoS2 Target
纯度	99.9%min
尺寸	圆片/圆台（直径<360mmX厚度>1mm） 矩形/片材/台阶状（长<300mmX宽<300mmX厚度>1mm）管材/圆环/旋转靶材（直径<360mmX厚度>2mm）按照图纸加工，大尺寸需来电咨询
元素名称	二硫化钼
元素符号	MoS2
英文名称	Molybdenum Disulfide
元素类型	非金属氧化物
CAS号	1317-33-5
相对原子质量	160.07
熔点	2375℃

钼靶，钼合金靶材

产品名称：钼靶，钼合金靶材 

产品编号：Molybdenum Sputtering Target，Molybdenum Alloy Targ  

详细说明：

钼靶/钼合金靶材

成份：钼/钼合金

钼靶，钼合金靶材
材质		纯度	应用
Mo	钼	3N5	电子及半导体
Mo	钼	3N5	显示
Mo	钼	3N5	玻璃
Mo	钼	3N5	光伏
other Mo	其他钼及钼合金	*	其他

纯度：99.9 - 99.999%

形态：按需定制。

钨钼靶材、钼靶和钨靶

 钨钼靶材、钼靶和钨靶

材质	供货状态	最大供货尺寸 mm
钨 99.95%	磨光	长 x 宽：300 x 600
钼 99.95%	磨光	长 x 宽：350 x 1000

规格：依用户图纸要求 By users drawing

供应钼溅射靶的大小：

钼靶材	钨靶材

钼靶材Molybdenum Target 用途

                            钼靶材Molybdenum Target 用途
广泛用于导电玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光学玻璃、离子镀膜等行业，适用所有平面镀膜及旋转镀膜系统。 Widely used in conductive glass, STN/TN/TFT-LCD, optical glass, ion coating industries, with all applicable plane coating and spin coating system

依用户图纸要求 By users drawing

可生产钨溅射靶规格为：

The supply of molybdenum sputtering target size:

材质material	供货状态state	最大供货尺寸  Max 宽width X 长Length mm
钼 Mo 99.95%	磨光ground	300 x 1000
钨 W 99.95%	磨光ground	300    X    600  ≤200；   X    1000

钼靶材的规格

鎢鉬靶材及離子注入用磨光產品因技術優越、產業化研究，生產規模、產能不斷擴大，品質體系健全、完善。產品現銷售到韓國、日本等地區，均得到用戶的肯定。可生產的TFT-LCD 和太陽能薄膜電池濺射靶材用鉬板的規格範圍：6~25×100~1500×≤3000 mm；產品規格如：9.5×160×925mm；15×133×778mm；19×200×2700mm；10×885×960mm；14×1400×1700mm；16×1431×1650mm等。

钼靶材的应用

 钼靶材的应用
溅射靶材用于磁控溅射镀膜，溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜(PVD)方式。

在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气)，在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电子， 靶上加有一定的负高压，从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率增大，在阴极附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面， 以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。

溅射镀膜的主要应用于：平板显示器、镀膜玻璃工业(主要包括建筑玻璃、汽车玻璃、光学薄膜玻璃等)、薄膜太阳能、 表面工程(装饰&工具)、（磁、光）记录介质、微电子、汽车车灯、装饰镀膜等。 可以根据用户的要求提供以下尺寸的钼溅射靶材:

板靶材: 单重:≤200kg/pc, 纯度:≥99.95%
管靶材: 长度:≤Φ165mmΧ1000mm ,纯度:≥99.95%

钼靶材的应用范围

钼靶材广泛用于导电玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光学玻璃、离子镀膜等行业，适用所有平面镀膜及旋转镀膜系统。

钼溅射靶材

我们拥有热轧机和冷轧机，可以提供钨，钼靶材厚度为0.2毫米至20毫米。具有非常好的性能，这些产品可用于生产电极，加热器，屏蔽件等。

钼溅射靶材又称钼靶材，可用于常用的X射线管的X射线屏蔽。
钼溅射靶材，即钼靶材，通常由钼粉经烧结而成。多数情况下，它是由阳极本身就是烧结钼粉制成，目标是由阳极所形成的。阳极可以是固定式或旋转阳极。其他的标准方法，化学气相沉积，或者再次，当焦点在一个旋转阳极的情况下，电解沉积启用了钼层沉积在阳极，沿着一条轨道，以形成对整个阳极表面或表面上这个目标的一部分。

钼溅射靶材

材料	纯度
钼溅射靶材  2"D X .125"T	99.95%
钼溅射靶材 2"D X .250"T	99.95%
钼溅射靶材"D X .125"T	99.95%
钼靶材3"D X .250"T	99.95%
钼靶材 4"D X .125"T	99.95%
钼靶材 4"D X .250"T	99.95%

其它尺寸也可。